クオルテック【9165】 提携に関する掲示板の投稿

次世代パワー半導体材料「r―GeO2」でゲームチェンジ狙う

ただ、従来r―GeO2は成膜時に蒸発するため、霧（ミスト）状の溶液を使い薄膜を形成する「ミストCVD（化学気相成長）」法でも低結晶領域が混入し、うまくエピタキシャル成長させることが難しかった。パテンティクスは一般的なミストCVD法を改良し、効率的に水分子の集合体を使いエピ成長できるようにした。

事業体制も強化する。クオルテックや日電精密工業（岐阜県大垣市）と23年12月に資本業務提携し、r―GeO2エピウエハーの量産を目指す。

https://news.yahoo.co.jp/articles/7bfacd23dc579bdfca04997e74c510c11a5a540f?source=sns&dv=sp&mid=other&date=20240115&ctg=sci&bt=tw_up